Bayerischer Forschungsverbund für Nanoelektronik (FORNEL)


Teilprojekt I.4:
Nanoimprint-Lithographie

Die Strukturierung im Sub 100 nm Bereich erfordert neue Verfahren, die alternativ oder ergänzend zur klassischen optischen Lithographie eingesetzt werden können. Speziell für Anwendungen aus den Bereichen Mikro- und Nanosystemtechnik, Speicherzellen und neuartige Materialien bietet sich die Verwendung einer auf dem kostengünstigen Imprint-Verfahren basierenden Strukturierungstechnik an. Bei der Imprint-Lithographie erfolgt die Strukturierung mit Hilfe eines Stempels, dessen Strukturen unter Druck in eine Polymerschicht übertragen werden. Mit Hilfe dieses Verfahrens können Strukturen mit Dimensionen im Bereich kleiner 50 nm erzeugt werden. Während herkömmliche Imprint-Verfahren in ihrer Mehrzahl auf der Basis der Thermokompression arbeiten, soll im Rahmen des Teilprojektes als alternative Methode ein Nanoimprint-Verfahren mit UV Aushärtung untersucht werden, bei dem belastende Temperaturzyklen vermieden werden. Prozesszeiten und Volumenfluktuationen des Materials werden reduziert und vor allem die Positioniergenauigkeit („Overlay“) erhöht, und damit die Prozessierung im „Step and Repeat“ Modus ermöglicht. Der angestrebte Lösungsansatz beinhaltet die Herstellung der benötigten UV transparenten Quarz-Stempel durch optische Lithographie, konventionelle Ätztechnik und die Anwendung fokussierter Ionenstrahlen. Die strukturierten Template Prototypen werden für die Herstellung einer Speichermatrix auf Basis des Imprint-Verfahrens mit UV Aushärtung verwendet.

[zurück]                [Impressum]