Bayerischer
Forschungsverbund für Nanoelektronik (FORNEL)
1. Bayerischer
FORNEL-Workshop
"Aktuelle Entwicklungen in der
Nanoelektronik"
12.
April 2005
Bericht
über den Workshop
Tagesordnung
Vorträge
Begrüßung
Walter Hansch, Lehrstuhl für Technische Elektronik, TU München
Vorstellung des
Forschungsverbundes für Nanoelektronik FORNEL
Doris Schmitt-Landsiedel, Lehrstuhl für Technische Elektronik, TU
München
Erzeugung von reaktivem
Wasserstoff zur Oberflächenbehandlung
Andreas Aßmuth, Institut für Physik, Universität der Bundeswehr München
Molds for Imprint Lithpgraphy
Holger Schmitt, Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente, Universität
Erlangen-Nürnberg
Atomic Layer Deposition:
Prozesse und Reaktor
Ventzeslav Rangelov, ATV Technologie GmbH, Vaterstetten
Interface of Al2O3
on Silicon by Atomic Layer Deposition
Kunyuan Gao, Institut für Technische Physik II, Universität
Erlangen-Nürnberg
Wasserstoff an SiC Oberflächen
und Grenzflächen: strukturelle und
elektronische Aspekte
Thomas Seyller, Institut
für Technische Physik II, Universität Erlangen-Nürnberg
Elektrische und
physikalische Charakterisierung von Haftstellen in dielektrischen
Schichten
Oliver Klar, Lehrstuhl für Elektronische Bauelemente, Universität
Erlangen-Nürnberg
Herstellung und Untersuchung
von Metall-Isolator-Halbleiter(MIS)
Kondensatoren mit hoch-epsilon Isolatorschichen auf Germanium
Tobias Dirnecker, Lehrstuhl
für Elektronische Bauelemente, Universität Erlangen-Nürnberg
MOSFETs
mit high-k Gate-Dielektrika
Berhard Fabel, Lehrstuhl
für Technische Elektronik, TU München
Simulation
von Nanobauelementen
Gerhard Wachutka, Lehrstuhl für Technische Elektrophysik, TU München
Vertikale Nanobauelemente
Torsten Sulima, Institut
für Physik, Universität der Bundeswehr München
Memory
Function of Feedback Coupled Single Y-branch Switches
David Hartmann, Lehrstuhl für Technische Physik, Universität Würzburg
Schaltungen mit
Tunnel-FETs
Doris Schmitt-Landsiedel, Lehrstuhl für
Technische Elektronik, TU München
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